工艺案例｜邑文科技 ICP 100μm GaAs深刻蚀工艺

发布时间：2026-05-15

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在VCSEL芯片、光通信器件、微波射频器件制造中，GaAs（砷化镓）深刻蚀是器件结构制备的核心关键工艺。传统湿法刻蚀存在钻蚀严重、刻蚀形貌难以控制、工艺污染严重等问题；而 ICP 电感耦合等离子体干法刻蚀具备刻蚀速率高、剖面形貌可控、片内与...

职工风采 | 邑文科技第四届职工运动会圆满落幕！

发布时间：2026-04-30

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为丰富职工文化生活，增强团队凝聚力，展现邑文人昂扬向上、奋勇争先的精神风貌，邑文科技第四届职工运动会如期举行，全体职工齐聚赛场，共赴这场充满激情与欢乐的运动盛宴！...

工艺案例 | 邑文科技ICP刻蚀SPI 12E，助力12英寸晶圆厂自主可控

发布时间：2026-04-20

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在芯片制程节点不断突破物理极限、三维集成与多层布线复杂度持续攀升的背景下，12英寸晶圆已成为先进逻辑与存储芯片量产的核心载体。干法刻蚀作为图形化工艺中必不可少的工序，其设备能力既是突破纳米节点瓶颈的关键，也是晶圆厂稳定量产的核心生产力，更是...

党建赋能 | 无锡市集成电路学会与邑文科技党建联建活动圆满举行

发布时间：2026-03-31

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3月30日，无锡市集成电路学会党支部与邑文科技党支部在邑文科技无锡总部联合举办党建联建活动。活动以“党建强引领，‘芯’火共奋进”为主题，通过多环节交流，推动双方党建工作互学互鉴，助力集成电路产业协同发展。...

邑文科技 | SEMICON CHINA 2026圆满收官，以芯聚力，共赴新程

发布时间：2026-03-28

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SEMICON CHINA 2026在上海新国际博览中心圆满落下帷幕。作为全球半导体产业极具影响力的年度盛会，本届展会汇聚海内外前沿技术与生态伙伴，共探产业趋势、共促技术协同，为半导体装备创新与国产替代注入强劲动能。 邑文科技携干法刻蚀、...