SINO-ALD C200/C300
发布时间:2020/09/07 10:34:44
机台介绍 原子层沉积系统SINO-ALD C200/C300是邑文自主研发的用于大规模生产的集成式工艺平台。可以同时配置热工艺ALD和等离子增强ALD,兼容多种工艺、检测设备。配置高精度自动化真空机械手。适用于集成电路、封装以及功率器件等半导体生产线,实现规模化生产。全面的interlock设计,方便的界面操作。 应用领域 · 8英寸~12英寸及以下半导体生产线 · 多种氧化物、氮化物的薄膜工艺的科学研究或工业生产 产品优势 · 高精度灵活真空机械手 · 兼容200m/300mm半导体生产线 · 4工位,可配置相同或不同设备 · 规模化生产 · 完善的interlock 主要技术参数 Wafer size: 200mm /300mm Cassette:25pcs Loading/unloading mode:automatically |