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SINO-ALD C200/C300

  机台介绍
原子层沉积系统SINO-ALD C200/C300是邑文自主研发的用于大规模生产的集成式工艺平台。可以同时配置热工艺ALD和等离子增强ALD,兼容多种工艺、检测设备。配置高精度自动化真空机械手。适用于集成电路、封装以及功率器件等半导体生产线,实现规模化生产。全面的interlock设计,方便的界面操作。

应用领域
· 8英寸~12英寸及以下半导体生产线
· 多种氧化物、氮化物的薄膜工艺的科学研究或工业生产

产品优势
· 高精度灵活真空机械手
· 兼容200m/300mm半导体生产线
· 4工位,可配置相同或不同设备
· 规模化生产
· 完善的interlock

主要技术参数
Wafer size: 200mm /300mm
Cassette:25pcs
Loading/unloading mode:automatically



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