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SINO ALD R200 研发与小批量薄膜沉积设备

工艺应用
科研验证,转小批量生产与试产



晶圆尺寸
8寸及以下



沉积材料
氧化物:Al2O3, AlxTiyOz, HfO2, In2O3, MgO, SiO2, SrTiOx, Ta2O5, TiO2, Y2O3, ZnO, ZnO:Al, ZrO2, La2O3, CeO2, …
氮化物:AlN, TiAlCN, TiN, TaNx, …
金属:Cu,Co,Ir, Pd, Pt, Ru, …



应用领域
Mini LED﹑Micro LED﹑UVC LED与车用户外照明LED,光学镜头(需要做叠层),AR光栅,MEMS传感器,SAW&BAW滤波器。



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